臺(tái)積電2nm工廠2024年量產(chǎn) 與三星、Intel決戰(zhàn)GAA晶體管技術(shù)

前幾天Intel發(fā)布了最新的CPU工藝路線圖，瞄準(zhǔn)2024年的20A工藝也首次亮相，會(huì)使用GAA晶體管工藝，Intel推出了RibbonFET及PowerVia兩項(xiàng)革命性技術(shù)。

接下來(lái)是Intel 18A，預(yù)計(jì)2025年初投產(chǎn)，繼續(xù)強(qiáng)化RibbonFET，還有下一代高NA EUV光刻，與ASML合作。

Intel決心在半導(dǎo)體工藝上重回領(lǐng)導(dǎo)地位，臺(tái)積電也面臨壓力，好消息是他們的2nm工藝Fab20日前獲批。

據(jù)介紹，F(xiàn)ab20工廠將分為4期廠房逐步動(dòng)工，前2期廠房預(yù)估會(huì)在2023年下半年完工并展開裝機(jī)作業(yè)，2024年下半年可望進(jìn)入量產(chǎn)階段，2nm工藝4期廠房全部完工量產(chǎn)要到2025～2026年，總月產(chǎn)能將逾10萬(wàn)片規(guī)模。

臺(tái)積電的2nm工藝雖然沒有詳細(xì)規(guī)格流出，但也會(huì)上GAA晶體管，臺(tái)積電為此開發(fā)了新的nanosheet納米片技術(shù)，可以更好地控制閾值電壓(Vt)，波動(dòng)降低至少15％，將大大改善芯片設(shè)計(jì)、性能。

除了Intel、臺(tái)積電之外，三星的3nm工藝工藝也會(huì)在2024年左右量產(chǎn)，盡管3nm跟2nm工藝還差了一代，但三星是首個(gè)進(jìn)入GAA晶體管工藝的廠商，依然不容小覷，這三大半導(dǎo)體巨頭將在2024年有一場(chǎng)惡戰(zhàn)，GAA技術(shù)表現(xiàn)如何，三家廠商的表現(xiàn)讓人關(guān)心。

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