據(jù)韓國媒體 BusinessKorea 報導，韓國產業(yè)通商資源部于 5 月 13 日對外宣布，全球光刻機龍頭大廠阿斯麥（ASML）計劃在韓國建設光刻設備再制造工廠及培訓中心，新廠預計在 2025 年建設完成。
所謂再制造，指的是以舊的機器設備為毛坯，采用專門的工藝和技術，在原有制造的基礎上進行一次新的制造，而且重新制造出來的產品無論是性能還是質量都不亞于原先的新品。
據(jù)媒體介紹，阿斯麥計劃未來四年將在韓國投資 2400 億韓元（約合 13.7 億人民幣），于京畿道華城市打造一座 EUV（極端遠紫外光源）光刻設備再制造廠以及一家培訓中心，由京畿道政府對阿斯麥在當?shù)氐氖跈?、擴張業(yè)務提供協(xié)助。其 EUV 光刻設備再制廠的主要用途就是為韓國當?shù)剡\行的 EUV 光刻機的維護和升級提供助力。
據(jù)IT之家了解，此前韓國發(fā)布半導體強國建設戰(zhàn)略規(guī)劃，將半導體研發(fā)稅額抵扣率提升至 40～50%，并且還擬斥資約 4500 億美元建設全球最大的芯片制造基地，韓國想躋身芯片半導體大國行列的意圖不言而喻，此次阿斯麥赴韓國建廠，對加快韓國半導體建設將會有很大的助力。
免責聲明：本網站內容主要來自原創(chuàng)、合作伙伴供稿和第三方自媒體作者投稿，凡在本網站出現(xiàn)的信息，均僅供參考。本網站將盡力確保所提供信息的準確性及可靠性，但不保證有關資料的準確性及可靠性，讀者在使用前請進一步核實，并對任何自主決定的行為負責。本網站對有關資料所引致的錯誤、不確或遺漏，概不負任何法律責任。任何單位或個人認為本網站中的網頁或鏈接內容可能涉嫌侵犯其知識產權或存在不實內容時，應及時向本網站提出書面權利通知或不實情況說明，并提供身份證明、權屬證明及詳細侵權或不實情況證明。本網站在收到上述法律文件后，將會依法盡快聯(lián)系相關文章源頭核實，溝通刪除相關內容或斷開相關鏈接。
